云龍-LAY-500G ALD Technical Specifications

系統配置

1.尺寸 (長(cháng) x 寬 x 高)

單體 1200mm x 1200mm x 1850mm

包括

2.重量 (KG)

單體 267Kg

3.電源

單體 14kW/37A/380VAC

4.基礎系統功能及配置

微納顆粒的原子層沉積包覆設備

基本功能

可在微納顆粒樣品上實(shí)現 ALD膜層 生長(cháng)工藝

樣品重量

克級別粉末，優(yōu)化工藝一般推薦 500g 以?xún)?/span>

工藝溫度

工藝溫度范圍從室溫到 300°C

工藝配件

配備 ALD 工藝套件，具有高溫密封和優(yōu)化氣流設計

5.特色

內外腔體設計， 可自動(dòng)運行 ALD 靜態(tài)及動(dòng)態(tài)模式

包括

專(zhuān)利設計的可拆卸式流化反應釜，實(shí)現工藝中粉體的均勻分散，易于清洗及操作， 保證工藝重復性

包括

最高工藝溫度 300 °C，為多膜系研發(fā)開(kāi)發(fā)設計

包括

多閥組設計，實(shí)現最佳前驅體輸送控制， 保證可重復性和易于維護

包括

共 4 路固體液體源， 2 路反應氣體，專(zhuān)有的 ALD 源及 ALD 高溫全自動(dòng) 自清潔閥組

包括

多道安全控制， 可編輯配方，完整的數據記錄和易于使用的 GUI 界面

包括

多種定制化選項

可選