蟠龍-LNY-1KG CVD
單次處理1公斤微納顆粒的氣相沉積包覆設備
可高溫上下料
利用流化床分散設計
可高溫上下料
利用流化床分散設計
蟠龍-LNY-1KG CVD Technical Specifications |
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系統配置 |
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1.尺寸 (長(cháng) x 寬 x 高) |
單體 3700mm×1280mm×3100mm |
包括 |
2.重量 (KG) |
單體 2100Kg |
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3.電源 |
單體 17KW 380 VAC 40A |
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4.基礎系統功能及配置 |
微納顆粒氣相沉積包覆設備 |
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基本功能 |
可在微納顆粒樣品上實(shí)現 氣相原子層沉積 膜層生長(cháng)工藝 |
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樣品重量 |
克級別粉末,優(yōu)化工藝一般推薦 1kg 以?xún)?/span> |
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工藝溫度 |
工藝溫度范圍從室溫到 900°C |
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工藝配件 |
配備 氣相沉積包覆工藝套件,具有高溫密封和優(yōu)化氣流設計 |
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5.特色 |
高溫反應腔體設計, 可自動(dòng)運行流化 |
包括 |
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底部攪拌系統,實(shí)現工藝中粉體的均勻分散,易于清潔及操作, 保證工藝重復性 |
包括 |
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最高工藝溫度 900 °C,為多膜系研發(fā)開(kāi)發(fā)設計 |
包括 |
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有上下料罐設計,可以實(shí)現自動(dòng)連續的加工和實(shí)驗 |
包括 |
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共 4 路氣體注入管道, 可以注入3種不同工藝氣體,有惰性氣體沖洗設計,可以避免危險氣體在管道內的殘留 |
包括 |
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多道安全控制, 可編輯配方,完整的數據記錄和易于使用的 GUI 界面 |
包括 |
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多種定制化選項 |
可選 |
產(chǎn)品詳情