青龍-LNY-1KG CVD
單次處理1公斤微納顆粒濕法包覆設備
利用流化床分散設計
利用流化床分散設計
青龍-LNY-1KG CVD Technical Specifications |
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系統配置 |
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1.尺寸 (長(cháng) x 寬 x 高) |
單體 1200mm x 800mm x 1850mm |
包括 |
2.重量 (KG) |
單體 267Kg |
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3.電源 |
單體 4kW/18A/220VAC |
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4.基礎系統功能及配置 |
微納顆粒濕法包覆設備 |
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基本功能 |
可在微納顆粒樣品上實(shí)現 濕法原子層膜層生長(cháng)工藝 |
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樣品重量 |
1公斤級別粉末,優(yōu)化工藝一般推薦 800g 以?xún)?/span> |
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工藝溫度 |
工藝溫度范圍從室溫到 80°C |
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工藝配件 |
配備濕法混料包覆的工藝套件,具有高溫密封和優(yōu)化氣流設計 |
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5.特色 |
流化腔體設計,全不銹鋼反應釜,可自動(dòng)運行濕法流化的 靜態(tài)及動(dòng)態(tài)模式 |
包括 |
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專(zhuān)利設計的可拆卸式流化反應釜,實(shí)現工藝中粉體的均勻分散,易于清洗及操作, 保證工藝重復性 |
包括 |
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最高工藝溫度 80 °C,為多膜系研發(fā)開(kāi)發(fā)設計 |
包括 |
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兩路噴霧嘴設計,實(shí)現最佳包覆物輸送控制, 保證可重復性和易于維護 |
包括 |
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多道安全控制, 可編輯配方,完整的數據記錄和易于使用的 GUI 界面 |
包括 |
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多種定制化選項(更高溫度,真空系統) |
可選 |
產(chǎn)品詳情