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圖片6

青龍-LNY-1KG CVD

單次處理1公斤微納顆粒濕法包覆設備
利用流化床分散設計

青龍-LNY-1KG  CVD Technical Specifications

系統配置

 

1.尺寸 (長(cháng) x 寬 x 高)

單體 1200mm x 800mm x 1850mm

包括

2.重量 (KG)

單體 267Kg

3.電源

單體 4kW/18A/220VAC

4.基礎系統功能及配置

微納顆粒濕法包覆設備

基本功能

可在微納顆粒樣品上實(shí)現 濕法原子層膜層生長(cháng)工藝

樣品重量

1公斤級別粉末,優(yōu)化工藝一般推薦 800g 以?xún)?/span>

工藝溫度

工藝溫度范圍從室溫到 80°C

工藝配件

配備濕法混料包覆的工藝套件,具有高溫密封和優(yōu)化氣流設計

5.特色

流化腔體設計,全不銹鋼反應釜,可自動(dòng)運行濕法流化的 靜態(tài)及動(dòng)態(tài)模式

包括

 

專(zhuān)利設計的可拆卸式流化反應釜,實(shí)現工藝中粉體的均勻分散,易于清洗及操作, 保證工藝重復性

包括

 

最高工藝溫度 80 °C,為多膜系研發(fā)開(kāi)發(fā)設計

包括

 

兩路噴霧嘴設計,實(shí)現最佳包覆物輸送控制, 保證可重復性和易于維護

包括

 

多道安全控制, 可編輯配方,完整的數據記錄和易于使用的 GUI 界面

包括

 

多種定制化選項(更高溫度,真空系統)

可選

 

產(chǎn)品詳情

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